Opis
SHAISHAISHAI Aloe PDRN Cooling Mud Mask — chłodząca i oczyszczająca maska glinkowa o działaniu regenerującym, która reguluje sebum i koi skórę bez jej przesuszania.
Składniki aktywne:
— Aloe Vera — łagodzi podrażnienia, nawilża i przyspiesza regenerację skóry
— PDRN (DNA łososia) — stymuluje odnowę komórkową i wzmacnia barierę skóry
— Kaolin / bentonit — pochłaniają nadmiar sebum i oczyszczają pory
— Kompleks chłodzący (mentol / podobne składniki) — obniża temperaturę skóry i redukuje obrzęki
— Składniki nawilżające — zapobiegają przesuszeniu po użyciu glinki
Cechy:
— miękka kremowo-glinkowa konsystencja bez twardnienia
— głębokie oczyszczanie bez uczucia ściągnięcia
— silny efekt chłodzenia podczas stosowania
— redukuje zaczerwienienia i stany zapalne
— poprawia strukturę skóry i zwęża pory
— odpowiednia do regularnej pielęgnacji równoważącej
Sposób użycia:
1. Nałóż równomiernie na czystą, suchą skórę.
2. Pozostaw na 10–15 minut.
3. Spłucz letnią wodą delikatnymi ruchami masującymi.
SHAISHAISHAI Aloe PDRN Cooling Mud Mask – Chłodząca Oczyszczająca Maska Glinkowa 100ml
Opinie
Ten produkt nie ma jeszcze żadnych opinii
Skład
Water, Kaolin, Dipropylene Glycol, Bentonite, Betaine, 1,2-Hexanediol, Glycerin, Cellulose, Methylpropanediol, Collagen, Xanthan Gum, Titanium Dioxide, Centella Asiatica Extract, Ficus Carica (Fig) Fruit Extract, Sodium Hyaluronate, Dimethylsilanol Hyaluronate, Hydrolyzed Sodium Hyaluronate, Hyaluronic Acid, Potassium Hyaluronate, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Hydroxypropyltrimonium Hyaluronate, Sodium Hyaluronate Dimethylsilanol, Sodium Acetylated Hyaluronate, Beta-Glucan, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Ceramide NP, Aloe Barbadensis Leaf Extract (2ppm), Sodium DNA (2ppm), Hydrogenated Polydecene, Ethylhexylglycerin, Hydroxyacetophenone, Butylene Glycol, Laminaria Japonica Extract, Chromium Oxide Greens, Eclipta Prostrata Leaf Extract, Methyl Diisopropyl Propionamide, Hydrogenated Lecithin, Fructooligosaccharides, Tocopherol, Disodium EDTA, Leuconostoc/Radish Root Ferment Filtrate
